完全按照预定日程2023年4月15日从深圳蛇口码头离境，在香港机场乘机直达日本冲绳（ISPC会址）；4月22日从日本冲绳乘飞机直达香港机场，经深圳蛇口码头入境。访问严格按照出访前计划与学校相关规定进行，经费使用完全限制在预算范围内。参会具体情况如下：

第14届欧日联合等离子体工艺研讨会（the 14th EU-Japan Joint Symposium on Plasma Processing，网址：https://www-ppl.eng.osaka-u.ac.jp/ICDDPS4/index.html）是国际上先进的半导体芯片制造工艺的前沿进展研讨会，会上有很多国际上先进的半导体公司（东京电子、东芝等）研发人员对最先进的半导体刻蚀及沉积工艺进行报告。

在会议期间，刘永新教授做了题目为“Effect of amplitude-modulation on the re-ignition of a pulsed capacitively coupled RF discharge”的特邀报告，高飞教授的博士生吕祥云进行了题为“Optimization of overshoot in pulsed inductively coupled Ar plasma by step waveform modulation”的口头报告。会议期间与国际上的合作者以及国际同行进行了广泛的学术交流，并初步商定了下一步的研究计划。

在本次EU-Japan Joint Symposium on Plasma Processing会议上，我们了解了国际同行的最新工作进展，以及最新的科研想法与思路，这对我们下一步的工作计划有重要的启示作用。

对上述情况有任何意见，请联系王奇。

邮箱：wang@dlut.edu.cn

                                                                                             单位名称 物理学院

                                                                                                                                                        2023年 4月 25日